光子学研究机构LZH技术发展一代沉积系统Spatial ALD

光子学和激光教育领域研究机构Laser Zentrum Hannover（简称LZH）完成了新一代沉降该系统（deposition system）「Spatial ALD」的整合，该该系统借助于了比过往更较高的沉降运动速度，过去可以使用均匀地涂覆有用外观的成像器件。LZH暗示，这种意志力在汽车电灯和VR/AR教育领域的应用里很有吸引力。

ALD（atomic layer deposition，氧原子层沉降）技术可以装配比较细的较高质量涂料，以外ALD 瓷主要使用装配半导体钢铁工业里的细功能层。新的Spatial ALD该系统是LZH与芬兰公司Beneq合作研发的。Beneq暗示，该该系统在金融业上是可行的，并且在钢铁工业上有很较高的需求。

Spatial ALD该系统在装配使用成像的超细涂料该系统时借助于了较高沉降运动速度，并能够对有用外观的表面开展均匀涂料。例如，强劲弯曲和结构化的成像元件，电子束蒸发（electron beam evaporation）或离子束坑洞（ion beam sputtering）等传统原理，很难良好地应用在这类成像元件上。而在汽车电灯或AR/VR教育领域，三维外观的电灯元素是必不可少的。

由于该该系统是基于等离子的，它可以在略高于100摄氏度的低温下调试，使其特别适使用涂料温度敏感的聚合物成像元件，这些成像元件通常使用发光二极管。

ALD 瓷基于气体前体（gaseous precursors）和晶片表面（substrate surfaces）之间的自限化学加成（self-limiting chemical reactions）。在以外近似于的传统该系统里，瓷加成是一个抵一个地开展，整个加成寝室无需开展不间断的微血管。LZH Spatial ALD 该系统里的原理各有不同。在这里，瓷循环在维度上分开开展。该该系统有四个独立的处理过程寝室，由压力和氮气里间；每一个处理过程寝室都完成ALD加成步骤。然后晶片滑动进入下一个腔寝室。通过这种方式，科学家们借助于了以前只有其他涂料瓷才能借助于的沉降运动速度。LZH暗示，这种原理“使该瓷特别金融业，同时使成像镀膜的较高出口量成为确实”。

整合制作团队在今年的Photonics West内阁会议上展览了他们使用新该系统的第一个学术研究。他们以外还在EUROSTARS合作项目INTEGRA里指导，使用Spatial ALD该系统为成像色散光栅开展涂料。