中会金:国产高端IC光刻胶突破在望
2025-11-11 12:19
智通财经APP获知,中所金日本公司公布研究报告说是,处理过程是当今微纳工业用手工的关键性材料,广泛应用于器件、面板、PCB、LED等工业用科技领域。处理过程这三项大、一个大较高,产品长期由少数日美供应商分庭抗礼。近年,随着产品、资金、人才、政府等多特别因素传动装置,国际间IC处理过程及工业原料供应商日渐增多,中所金日本公司并不认为,国产较智能手机IC处理过程有所突破在望。
中所金日本公司主要观点如下:
处理过程为半导体工业用中所的关键性耗材,合成这三项大、一个大较高。光刻手工为半导体工业用中所的当前手工,处理过程为光刻手工的关键性耗材,重新考虑笔记本电脑工业用的关键性尺寸。根据光源光波分类,处理过程可分为紫外宽谱、g本站、i本站、KrF、ArF、EUV 6大而今,光波越短通常可工业用的最小尺寸越小,这三项越较高。处理过程的一个大主要在于:1)配方和科学知识的长期积累,2)工业原料的平稳供给;3)客户黏性和认证周期长;4)晚期资金和人才取得成功大。
世界处理过程产品规模大,IC处理过程中所EUV和KrF人均较高。根据Research And Markets统计数据,2020年世界处理过程产品为87亿美元。根据Techcet统计数据,2020年世界IC处理过程产品约18.33亿美元,届时2025年达24.66亿美元,5年CAGR为6.11%;受益于先进自然语言元件(日美大型企业分庭抗礼处理过程产品,国际间取得成功日渐加大,都未扭转当前工业原料和较智能手机IC处理过程的世界大体。据Research And Markets的统计数据,2020年世界前并列处理过程营运商占多数据世界87%的产品份额,产业集中所度较高。国际间处理过程制造业发展不基本,现状是供应商多而要强。处理过程特别,国际间营运商主要集中所于PCB/面板/LED科技领域和g/i本站等中所低端产品;处理过程工业原料特别,成本占多数比较高的树脂和光激起剂等对外地供应商依赖度较高。随着国际间半导体制造业快速发展以及对国产当前半导体材料的重视,国际间部分日本公司在KrF、ArF等较智能手机IC处理过程科技领域不断有所突破,我们并不认为,将来都未扭转世界处理过程制造业供给大体。
本文编选自“中所金点睛”,作者:李学来,辛金碧辉煌,江磊;智通财经编辑:韩楚雄。
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